1 Patent
- US123680422025Precursors and Processes for Deposition of Si-containing Films Using ALD at Temperature of 550° C. or Higher
L'air Liquide, Société Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procédés Georges Claude
0 cites
L'air Liquide, Société Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procédés Georges Claude